ASML completa seu primeiro equipamento de litografia ultravioleta extrema
A empresa holandesa ASML, líder mundial na fabricação de equipamentos de litografia para a produção de semicondutores, finalizou a construção de seu primeiro equipamento de litografia ultravioleta extrema (EUV) de alta abertura (High-NA). Estima-se que o custo desta máquina seja de $300 milhões e espera-se que seja entregue a um cliente antes do final do ano de 2023. Tudo indica que a Intel será a destinatária, devido à sua necessidade de manter-se atualizada com seu cronograma de produção.
Uma ferramenta crucial para a Intel
Para a Intel, este equipamento é essencial. A empresa precisa desta máquina para completar seu nó litográfico 18A (1,8 nm) em 2024. Vale lembrar que a Intel investiu $4 bilhões na ASML em 2012 para financiar o desenvolvimento de equipamentos de litografia EUV.
Impacto geopolítico e avanços tecnológicos
O impacto geopolítico deste progresso tecnológico é significativo. A máquina será enviada para a fábrica de semicondutores da Intel em Hillsboro, Estados Unidos. No contexto atual, onde a competição entre os Estados Unidos e a China pelo desenvolvimento de circuitos integrados avançados está se intensificando, este equipamento desempenhará um papel estratégico.
Os equipamentos EUV High-NA são mais avançados e complexos do que as máquinas EUV de primeira geração. Apesar do custo ser o dobro – $300 milhões contra os $150 milhões -, esses equipamentos permitirão produzir circuitos integrados além do limite de 3 nm. Para conseguir isso, a ASML implementou uma arquitetura óptica avançada com uma abertura maior que os equipamentos anteriores. Esta nova óptica permite transferir padrões de maior resolução para o wafer, facilitando a fabricação de chips mais avançados.
Além disso, a ASML melhorou os sistemas mecânicos para manipular os wafers. Uma única máquina EUV High-NA pode produzir mais de 200 wafers por hora. Nenhum outro fabricante possui uma máquina capaz de competir com este equipamento da ASML.
Em termos de competição, a alternativa mais avançada é a equipe de litografia de nanoimpressão (NIL) da Canon, capaz de fabricar chips de 2 nm. No entanto, a nova máquina UVE High-NA da ASML é a mais avançada no mercado de semicondutores. Com este avanço, a ASML reforça sua posição como líder incontestável no setor e se estabelece como um ator chave no desenvolvimento tecnológico global.
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